Lắng đọng hơi hóa chất hữu cơ kim loại (MOCVD) là một quá trìnhđược sử dụng để tạo ra hợp chất tinh thể có độ tinh khiết cao bán dẫn màng mỏng và cấu trúc micro / nano. Có thể dễ dàng đạt được khả năng tinh chỉnh chính xác, giao diện đột ngột, lắng đọng biểu mô và mức độ kiểm soát dopant cao.
Sự khác biệt giữa MOCVD và CVD là gì?
MOCVD. Lắng đọng hơi hóa chất hữu cơ kim loại (MOCVD) là một biến thể của lắng đọng hơi hóa học (CVD), thường được sử dụng để lắng đọng các cấu trúc và màng mỏng micro / nano tinh thể. Có thể dễ dàng đạt được điều chế tốt, giao diện đột ngột và mức độ kiểm soát dopant tốt.
Sự lắng đọng hơi hóa chất phải có hai yếu tố nào?
Tuy nhiên, các quy trình CVD thường yêu cầunhiệt độ cao và môi trường chân không, và các tiền chất sẽ dễ bay hơi.
Hệ thống Pecvd là gì?
Sự lắng đọng hơi hóa chất tăng cường trong huyết tương (PECVD) làmột quá trình mà các màng mỏng của nhiều vật liệu khác nhau có thể được lắng đọng trên chất nền ở nhiệt độ thấp hơnso với nhiệt độ lắng đọng hơi hóa học tiêu chuẩn (CVD). Chúng tôi cung cấp nhiều cải tiến trong hệ thống PECVD của chúng tôi để sản xuất phim chất lượng cao. …
Pecvd có phải là kỹ thuật lắng đọng hơi vật lý không?
PECVD là kỹ thuậtđược thiết lập tốt để lắng đọng nhiều loại phim. Nhiều loại thiết bị yêu cầu PECVD để tạo mặt nạ thụ động chất lượng cao hoặc mật độ cao.
